湖南天啟電子元件有限公司廢氣處理工程
發(fā)布日期:2017-11-06 | 信息來(lái)源:湖南中揚(yáng)環(huán)??萍加邢薰?/td> | 訪問(wèn)次數(shù): 853 |
湖南天啟電子元件有限公司成立于2005年,是臺(tái)灣在大陸的唯一電子元件配件生產(chǎn)廠,負(fù)責(zé)整個(gè)大陸的產(chǎn)品供應(yīng)及出口到部分國(guó)家。公司在生產(chǎn)過(guò)程中涉及鍍膜、蝕刻、退鍍等多道工產(chǎn)工序,在生產(chǎn)過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生大量揮發(fā)性氣體,一般呈酸性及含有部分有機(jī)物。如直接排放,不僅對(duì)廠區(qū)環(huán)境影響較大,也對(duì)員工的工作環(huán)境產(chǎn)生較大影響。該公司高度重視環(huán)保工作,特委托我公司對(duì)該類型廢氣進(jìn)行全面收集處理。我公司根據(jù)多年此類廢氣處理經(jīng)驗(yàn),于2015年成功完成該項(xiàng)目設(shè)計(jì)、施工及相關(guān)調(diào)試工作,目前系統(tǒng)運(yùn)行正常,處理完排放廢氣穩(wěn)定達(dá)標(biāo)。
設(shè)計(jì)處理風(fēng)量為50000m³/H,按《環(huán)境空氣質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》(GB3095-1996)、《惡臭物質(zhì)排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB14554-93)及《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB16297-1996)中大氣污染物排放的要求。
工藝介紹:
1、多功能噴淋塔:
該技術(shù)是我公司的專利技術(shù)之一,是利用獨(dú)特的氣液混合區(qū)域使氣體與液體充分混合,比重較大的物質(zhì)在混合區(qū)被液體截留至箱體底部,其他氣體再經(jīng)過(guò)氣體分割器將氣體分割上無(wú)數(shù)細(xì)小的氣泡,在氣體分割器上根據(jù)流動(dòng)力學(xué)原理產(chǎn)生一層極薄的液體保護(hù)膜。氣泡在經(jīng)過(guò)保護(hù)膜時(shí)由于液體表面張力及粘附力使油等物質(zhì)被保護(hù)膜截留。液體保護(hù)膜在整個(gè)過(guò)程中處于動(dòng)態(tài)平衡狀態(tài),保護(hù)膜截留下的物質(zhì)不斷的從側(cè)面排出,氣液混合區(qū)中的水份又不斷的補(bǔ)充到保護(hù)膜上,從而維持保護(hù)膜不斷的更新。該技術(shù)具有除塵、除油、化學(xué)氧化、吸收等功能于一體,同時(shí)能夠利用液體截留、表面張力等將氣體中的氣霧、水分去除。
2、低溫等離子凈化器:
①工藝運(yùn)行操作簡(jiǎn)單,設(shè)備即開即停。
②增加低溫等離子體處理設(shè)備后,設(shè)備啟動(dòng)及停止無(wú)需重新調(diào)試,可隨開隨用。
③運(yùn)行費(fèi)用低,低溫等離子體運(yùn)行以消耗電為主,且功率較低,無(wú)需其他添加物質(zhì)等。
設(shè)計(jì)處理風(fēng)量為50000m³/H,按《環(huán)境空氣質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》(GB3095-1996)、《惡臭物質(zhì)排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB14554-93)及《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB16297-1996)中大氣污染物排放的要求。
工藝介紹:
1、多功能噴淋塔:
該技術(shù)是我公司的專利技術(shù)之一,是利用獨(dú)特的氣液混合區(qū)域使氣體與液體充分混合,比重較大的物質(zhì)在混合區(qū)被液體截留至箱體底部,其他氣體再經(jīng)過(guò)氣體分割器將氣體分割上無(wú)數(shù)細(xì)小的氣泡,在氣體分割器上根據(jù)流動(dòng)力學(xué)原理產(chǎn)生一層極薄的液體保護(hù)膜。氣泡在經(jīng)過(guò)保護(hù)膜時(shí)由于液體表面張力及粘附力使油等物質(zhì)被保護(hù)膜截留。液體保護(hù)膜在整個(gè)過(guò)程中處于動(dòng)態(tài)平衡狀態(tài),保護(hù)膜截留下的物質(zhì)不斷的從側(cè)面排出,氣液混合區(qū)中的水份又不斷的補(bǔ)充到保護(hù)膜上,從而維持保護(hù)膜不斷的更新。該技術(shù)具有除塵、除油、化學(xué)氧化、吸收等功能于一體,同時(shí)能夠利用液體截留、表面張力等將氣體中的氣霧、水分去除。
2、低溫等離子凈化器:
①工藝運(yùn)行操作簡(jiǎn)單,設(shè)備即開即停。
②增加低溫等離子體處理設(shè)備后,設(shè)備啟動(dòng)及停止無(wú)需重新調(diào)試,可隨開隨用。
③運(yùn)行費(fèi)用低,低溫等離子體運(yùn)行以消耗電為主,且功率較低,無(wú)需其他添加物質(zhì)等。
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